極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の売上高は2033年までに257億米ドル、Survey Reports合同会社アナリストの成長分析による市場は装置別、エンドユーザー別、地域別に区分されます。

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模調査報告書-概要

この調査レポートは、世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場を調査・分析したもので、2024年から2033年にかけて年平均成長率22％を予測し、2033年末までに257億ドルの市場規模を創出すると予測しています。2023年の市場規模は95億ドルでした。

• 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、先端半導体デバイスの需要増加を背景に成長すると予測されています。
• 日本における極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長は、集積回路の複雑化に起因しています。
• Survey Reports合同会社アナリストの成長分析では、電源変動が市場成長の課題になると予測。
• アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、世界市場を支配すると予測されています。

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の分析

極端紫外線（EUV）リソグラフィは、13.5nmという極めて短い波長の光を利用して、シリコンウェーハやプレート上に複雑なパターンをエッチング形成する半導体製造技術です。世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、先端半導体デバイスの需要増加を背景に成長すると予測されています。極端紫外線（EUV）リソグラフィは、より小型で高性能なチップを高精度で製造する技術です。この能力は、次世代エレクトロニクスの開発において極めて重要なステップであり、電子・電気産業におけるさまざまな技術進歩を世界的に支えています。報告書によると、世界の半導体ウェハ市場規模は2022年に191億9000万米ドルに達すると推定され、予測期間中の年平均成長率は5.43%で、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長を牽引しています。ASML、Carl Zeiss AG、TOPPAN Incは、極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場における重要な当事者の一部です。

アナリストが見た日本の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場調査

日本における極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長は、集積回路の複雑化に起因しています。半導体デバイスは時代とともに高度化し、パターンやより正確なエッチング技術が必要とされています。極端な短波長を使用することにより、極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術は、現代の電子機器の製造に必要なコンポーネントである複雑な回路設計の生産につながり、市場における極端紫外線（EUV）リソグラフィの需要を牽引しています。報告書によると、日本の集積回路市場は2032年に736.8億米ドルの市場規模を予測し、日本市場における極端紫外線（EUV）リソグラフィの需要を牽引しています。NTTアドバンステクノロジ株式会社、HOYA株式会社、ACG株式会社は、日本における極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の重要な当事者の一部です。

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長促進要因と課題

先端半導体デバイスの需要増：

先端半導体への需要増が極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長を牽引現在、技術はより高度に進化しており、AI、5G、高性能コンピューティングなどのアプリケーションで強力なチップの需要が増加しています。また、極端紫外線（EUV）リソグラフィは、ウェハ上に微細なパターニングラインを形成することでこれらのチップの生産を可能にし、次世代デバイスの開発をサポートします。

電源変動：

極端紫外線（EUV）リソグラフィにおける光源の出力変動は、半導体ウェハ上に描画されるパターンの一貫性と品質に影響を与えます。光強度の変動は、チップのエッチング精度に影響を与え、欠陥の原因となり、製造能力を低下させます。

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のセグメンテーション

この調査レポートは世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場を調査・分析したSurvey Reports合同会社の市場調査報告書です：

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の地域別概要

アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、同地域における半導体製造施設の急速な拡大が主な要因となっています。中国、韓国、台湾のような国々は、高性能電子機器に対する需要の高まりに対応するため、先端半導体技術への投資とその生産設備の設置に積極的に取り組んでいます。これには、より高い性能と効率で正確かつ最先端のチップを生産するための極端紫外線（EUV）リソグラフィへの投資も含まれます。この地域の技術革新とインフラストラクチャーの進歩は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術の採用を後押ししています。台湾は世界最大の半導体メーカーであり、世界第1位の地位を占めているため、アジア太平洋地域の半導体市場における極端紫外線（EUV）リソグラフィの成長を牽引しています。

Survey Reports合同会社のアナリストによると、アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長をリードしているのは以下の5社です：

• AGC株式会社
• 株式会社トッパン
• NTTアドバンステクノロジ株式会社
• HOYA株式会社
• レーザーテック株式会社

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の競争環境

世界の極端紫外線(EUV)リソグラフィ市場シェアの上位を占める主要企業の一部をご紹介します：

• エーエスエムエル
• カールツァイスAG
• 株式会社トッパン
• NTTアドバンステクノロジ株式会社
• KLA株式会社
• AGC株式会社
• HOYA株式会社
• レーザーテック株式会社
• 株式会社ザイゴ
• イマジンオプティクス
• アプライド マテリアル
• SUSS MicroTech SE

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の最新動向

• ASMLは、2025年のHigh-NA製造に向けたインテル コーポレーションとの協業の最終段階を発表しました。インテルは、ASMLのTWINSCAN EXE:5200システムを初めて発注し、EUV 0.55 NA（High-NA）導入に向けた次のステップを踏み出しました。
• サムスンは、韓国の半導体生産メガクラスターに今後20年間で2300億ドルを投資する計画を発表。